QDry
Sécheur à point critique automatique
MEB-FIB Triple Faisceau
Le FIB-SEM Ethos intègre la dernière génération de FE-SEM avec une luminosité et une stabilité exceptionnelle. Ethos offre une imagerie haute résolution à basse tension combinée à une optique ionique pour un traitement de précision à l’échelle nanométrique.
Optique électronique raffinée et détection multi-signaux
La colonne du MEB Ethos est composée d’un système d’objectif composé à champ magnétique et électrostatique configuré en deux modes d’objectif.
Le mode haute résolution (HR) permet d’observer l’échantillon à une résolution optimale en l’immergeant dans le champ magnétique du système d’objectif. Le mode sans champ (FF) offre un traitement FIB en temps réel pour un fraisage de haute précision du point final.
L’hyper commutation entre l’irradiation FIB et l’imagerie SEM aussi rapide que 10 nsec offre des vues de fabrication et d’observation en temps réel avec clarté. L’imagerie SEM et IM rapide permet aux utilisateurs de trouver rapidement la zone d’intérêt avec facilité.
Caractéristiques principales
1. Colonne FE-SEM haute performance avec mode double objectif
Observation à ultra-haute résolution (mode HR : semi-in-lentille)
Détection de point final de haute précision en temps réel (mode FF : Field Free (mode de partage du temps)
2. Traitement des matériaux à haut débit
Traitement ultra-rapide avec une densité de courant ionique élevée (courant de faisceau max. : 100 nA)
Script programmable par l’utilisateur pour le traitement automatique et l’observation
3. Système de micro-échantillonnage
Contrôle d’orientation de l’échantillon entièrement intégré pour l’effet anti-courant (technologie ACE)
Préparation d’échantillons TEM pour des lamelles uniformes à n’importe quelle orientation
4. Production de trois faisceaux, pour des résultats de qualité avancée
Traitement des matériaux par faisceau d’ions de gaz rares à faible accélération.
Fonctions innovantes réduisant les artefacts liés aux ions Ga et autres artefacts de fraisage
5. Grande chambre multiport et platine pour diverses applications
Système capable de traiter des échantillons de grande taille avec une stabilité exceptionnelle de la platine
Suivi longue distance amélioré (155 x 155 mm).