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Ethos NX5000

MEB-FIB Triple Faisceau

Ce produit est disponible auprès de Milexia France

Le FIB-SEM Ethos intègre la dernière génération de FE-SEM avec une luminosité et une stabilité exceptionnelle. Ethos offre une imagerie haute résolution à basse tension combinée à une optique ionique pour un traitement de précision à l’échelle nanométrique.

Optique électronique raffinée et détection multi-signaux

La colonne du MEB Ethos est composée d’un système d’objectif composé à champ magnétique et électrostatique configuré en deux modes d’objectif.

Le mode haute résolution (HR) permet d’observer l’échantillon à une résolution optimale en l’immergeant dans le champ magnétique du système d’objectif. Le mode sans champ (FF) offre un traitement FIB en temps réel pour un fraisage de haute précision du point final.

L’hyper commutation entre l’irradiation FIB et l’imagerie SEM aussi rapide que 10 nsec offre des vues de fabrication et d’observation en temps réel avec clarté. L’imagerie SEM et IM rapide permet aux utilisateurs de trouver rapidement la zone d’intérêt avec facilité.

Caractéristiques principales

1. Colonne FE-SEM haute performance avec mode double objectif

Observation à ultra-haute résolution (mode HR : semi-in-lentille)
Détection de point final de haute précision en temps réel (mode FF : Field Free (mode de partage du temps)

2. Traitement des matériaux à haut débit

Traitement ultra-rapide avec une densité de courant ionique élevée (courant de faisceau max. : 100 nA)
Script programmable par l’utilisateur pour le traitement automatique et l’observation

3. Système de micro-échantillonnage

Contrôle d’orientation de l’échantillon entièrement intégré pour l’effet anti-courant (technologie ACE)
Préparation d’échantillons TEM pour des lamelles uniformes à n’importe quelle orientation

4. Production de trois faisceaux, pour des résultats de qualité avancée

Traitement des matériaux par faisceau d’ions de gaz rares à faible accélération.
Fonctions innovantes réduisant les artefacts liés aux ions Ga et autres artefacts de fraisage

5. Grande chambre multiport et platine pour diverses applications

Système capable de traiter des échantillons de grande taille avec une stabilité exceptionnelle de la platine
Suivi longue distance amélioré (155 x 155 mm).

Features and variations

  • Ultra high resolution "Aquila" SEM column with cold cathode gun 
  • High current density Ga ion column for precise and very fast processing 
  • Argon/Xenon gun for delicate cut finishing and minimisation of radiation damage
  • 7-axis stage and sample handling device for optimised, omni-directional orientation 
  • Large chamber, high displacement stage and numerous ports allowing the adaptation of many complementary devices (Eds, Ebsd, Cryo, etc...) 

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